ציוד תחריט יבש

ציוד תחריט יבשהוא פיתרון בעל ביצועים גבוהים לעיבוד חומרים מדויקים בענפים מגוונים. שימוש מתקדםתחריט יון תגובתי (RIE)טכנולוגיה, ציוד זה משיג תחריט ללא מגע, ללא שאריות ללא כימיקלים נוזליים, מה שהופך אותו לאידיאלי ליישומים הדורשים דיוק ברמת המיקרון ותאימות סביבתית.

יכולת תחריט אניסוטרופית

• המערכת משלבת תגובות כימיות (מינים המופעלים בפלזמה) עם הפצצת יונים כיוונית, ומאפשרת פרופילי תחריט אנכיים מדויקים. זה קריטי ליצירת מבנים מיקרו על מתכות (למשל, נירוסטה, סגסוגות טיטניום), קרמיקה (Al₂O₃, SIC) ופולימרים (PEEK, PTFE).
• תחריט אחידותנשמר בתוך ± 5% על פני מצעים בקוטר של עד 800 מ"מ, אפילו לגיאומטריות מורכבות.

עיצוב ומדרגיות מודולרי

• תצורות מקורות יונים מרובות: הציוד תומך במקורות יון ליניאריים, מעגליים או רדיואקטיביים מצומדים, ומאפשר עיבוד סימולטני של חלקי עבודה מרובים.
• פרמטרים לתהליך מתכוונן: ניתן לייעל אנרגיית יון (5 0 - 500 eV) וצפיפות פלזמה (10⁰-10¹² סמ"ק) כדי לאזן את קצב התחריט (עד 30 ננומטר/דקה) וחלקות פני השטח (RA <0.1 מיקרומטר).

פעולה ידידותית לסביבה

• אפס פסולת נוזלית: שלא כמו תחריט רטוב, התהליך היבש מבטל סילוק כימי מסוכן.
• עיצוב יעיל באנרגיה: צריכת החשמל של 10 קילוואט נמוכה ב -30% ממערכות מסורתיות, כאשר פיזור החום מנוהל באמצעות מערכת קירור מים טהורים עם לולאה סגורה (גדול או שווה לקצב זרימה של 4 מ"ק/שעה).

בקרת תהליכים משופרת

• ניטור בזמן אמת: מערכת הבקרה המשולבת מבוססת PC עוקבת אחר רמות ואקום (לחץ בסיס פחות או שווה ל -5. 0 × 10⁻⁴ PA), קצב זרימת הגז ויציבות קרן יונים.
• פרוטוקולי בטיחות אוטומטיים: הגנת עומס יתר, דיכוי קשת ומנגנוני כיבוי חירום מבטיחים בטיחות תפעולית.

ביצועים טרום ואחרי התחשטויות

• התחשבות מראש: משטחים עשויים להציג שכבות חמצון, שאריות אורגניות או מרקמים לא אחידים, הפוגעים בהידבקות ציפוי או ביצועים פונקציונליים.
• לאחר התחשטויות: מושג משטח נקי ונטול פגמים עם חספוס מבוקר, ומשפר תהליכים עוקבים כמו ציפוי PVD, מליטה או הדפסה.

• אוֹפְּטִיקָה: תחריט מיקרו-מבנים אנטי-רפלקטיביים על עדשות ופאנלים לתצוגה.
• כלי דיוק: מרקם פני השטח של כלים ותבניות לשיפור התנגדות הבלאי.
• רכיבי אנרגיה חדשים: מבנה אלקטרודות למערכות סוללה ותאי דלק.