ציוד ציפוי מפיזת מגנטרון

מכונת ציפוי מפיזת מגנטרון היא טכנולוגיית התמצאות אדים פיזית המשתמשת באינטראקציה בין שדה מגנטי ויונים כדי להכין סרטים דקים. מכונת הציפוי המפזרת של Magnetron משתמשת בטכנולוגיית הליבה המוכחת של החברה: ניקוי קרני יוני + מקור התזת מגנטרון. בחדר הוואקום, הסביבה מגיעה למצב ואקום גבוה על ידי שואב. לאחר מכן, באמצעות פריקת זוהר או קרינת תדר רדיו, משטח היעד מופעל כדי ליינן את אטומי הגז או המולקולות העובדות וליצור פלזמה. ואז, על ידי יישום שדה מגנטי, היונים נשלטים על ידי השדה המגנטי, מה שמגדיל את ההסתברות לפגוע במשטח היעד. קרן היונים מתנגשת עם פני המטרה, וגורמת לאטומים או למולקולות על המטרה להתנפץ ולהפקדה על משטח המצע במהירות גבוהה יותר ליצירת סרט. ניתן להתאים את האנרגיה של קרן היון, וניתן לשנות את המבנה והתכונות של הסרט על ידי שליטה על אנרגיית קרן היון וצפיפות. מכונת הציפוי המניפוד של מגנטרון מאמצת בקרה אוטומטית מלאה, אופטימיזציה של שילוב מודולרי, כוח גבוה, יציבות טובה, פעולה פשוטה ותחזוקה קלה. מכונת התזוזות של מגנטרון מתאימה לשירותי פיתוח ציפוי וציפוי אצווה.

לבטא מהירות בתצהיר מהיר;

לבטא עליית טמפרטורת מצע נמוכה;

לבטא את הנזק לשכבת הממברנה הוא קטן;

להביע קשירת קרום טובה;

לבטא טוהר סרטים גבוה, צפיפות טובה, אחידות קולנוע טובה;

לבטא יכולת חוזרת טובה;

להביע מתאים למגוון חומרים;

לבטא את התיעוש קל למימוש;

לבטא את ההרכב של שכבת הסרט קרוב לזו של חומר המטרה.

להביע את ציפוי הסרטים טוב;

הטיה שלילית אקספרס מיושמת על חומר העבודה;

אקספרס טכניקת יעד מורכבת.