סקירת מוצר
ציוד סרט דק זה לאידוי קרן אלקטרונים מתוכנן עבור שקיעת אדים פיזית-בדיוק גבוה (PVD). באמצעות אלומת אלקטרונים ממוקדת-באנרגיה גבוהה כדי להפציץ חומרי מקור, המערכת משיגה קצבי אידוי גבוהים עבור מתכות, תחמוצות וחומרים דיאלקטריים בנקודת -היתוך- גבוהה.
המערכת בנויה על ארכיטקטורת ואקום מודולרית, מתאימה לאקדחי אלקטרונים מרובי-כיסים, אביזרי מצע הניתנים להתאמה אישית וניטור-מתקדם באתר. הוא משרת מעבדות מחקר ופיתוח וקווי ייצור-גבוהים הדורשים בקרה קפדנית על סטוכיומטריית הסרט, הדבקה וביצועים אופטיים.
-
![ציוד לאידוי קרן אלקטרונים בוואקום גבוה]()
ציוד לאידוי קרן אלקטרונים בוואקום גבוהמערכת EBE -Series High Vacuum Electron Beam Vaporation System מפקידה סרטים דקים -בטוהר גבוה עבור יישומים אופטיים, מוליכים למחצה ומטלורגים. על ידי הפניית אלומת אלקטרונים ממוקדת מגנטית אל חומרי מקור...צפה בעוד -
![מערכת שקיעת סרט דק קרן אלקטרונים]()
מערכת שקיעת סרט דק קרן אלקטרוניםמערכת Electron Beam Thin Film Deposition מספקת עיבוד PVD כיווני, -בטוהר גבוה עבור מחקר מתקדם וייצור תעשייתי. באמצעות אלומת אלקטרונים ממוקדת, מנווטת מגנטית, המכוונת אל חומר מקור בתוך כור נחושת...צפה בעוד -
![ציוד אידוי ואקום של קרן אלקטרונים]()
ציוד אידוי ואקום של קרן אלקטרוניםמערכת אידוי ואקום של קרן אלקטרונים זו מבצעת שקיעת אדים פיזית (PVD) של מתכות, תחמוצות ודיאלקטריות גבוהות בנקודת -התכה-. על ידי הפניית קרן אלקטרונים ממוקדת לתוך אח נחושת מקורר- במים, המערכת מספקת...צפה בעוד -
![ציוד לתצהיר סרט דק של קרן אלקטרונים]()
ציוד לתצהיר סרט דק של קרן אלקטרוניםמערכת שקיעת אלומת אלקטרונים תעשייתית זו משתמשת בתותחי אלקטרונים ממוקדים מגנטית (3 קילוואט עד 15 קילוואט) כדי להפנות שטפי אנרגיה בצפיפות- גבוהה אל מוקדי נחושת מקוררים- במים. על ידי אידוי חומרי מקור...צפה בעוד -
![מערכת סרטים דקים לאידוי קרן אלקטרונים]()
מערכת סרטים דקים לאידוי קרן אלקטרוניםמערכת EBE -מסדרת Electron Beam Evaporation מתוכננת עבור שקיעת אדים פיזית (PVD) של מתכות גבוהות-התכה-, דיאלקטריות וחומרים אופטיים. באמצעות ניצול אלומת אלקטרונים ממוקדת המוטה מגנטית ישירות על חומרי...צפה בעוד -
![ציוד לסרט דק לאידוי קרן אלקטרונים]()
ציוד לסרט דק לאידוי קרן אלקטרוניםסדרת EBE-V600 היא פלטפורמה תעשייתית-תעשייתית (PVD) המיועדת לציפוי סרט דק- מדויק של רכיבים אופטיים, התקני מוליכים למחצה וחומרים מתקדמים. על ידי הפניית אלומת אלקטרונים ממוקדת מגנטית באנרגיה- גבוהה...צפה בעוד
מפרט טכני
|
פָּרָמֶטֶר |
טווח מפרט |
הערות / תצורה רגילה |
|
לחץ בסיס אולטימטיבי |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
מושגת באמצעות קבוצות שאיבה קריוגנית או טורבו-מולקולרית |
|
מידות קאמרית |
מותאם אישית (500 מ"מ עד 1200 מ"מ קוטר פנימי) |
304L / 316L נירוסטה, מלוטש אלקטרו- |
|
E-דירוג כוח אקדח |
6 קילוואט עד 15 קילוואט (גנרטורים מרובי-כיסים) |
הסטת אלומה ניתנת לתכנות ואינדקס רב- של כור היתוך |
|
שיעור ההפקדה |
0.1 ננומטר לשנייה עד 10 ננומטר לשנייה |
בקרת לולאה-בזמן סגור-באמת באמצעות צג קריסטל קוורץ |
|
אחידות עובי הסרט |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
מתקן מצע פלנטרי או כיפה עם סיבוב במהירות משתנה |
|
טמפרטורת המצע |
אווירה עד 800 מעלות |
חימום קורן משולב עם משוב תרמי PID |
תכונות ציוד מרכזיות
אקדח אלקטרוני ביציבות- גבוהה:
כולל סטיה מגנטית ומיקוד מרובה-נקודות כדי למנוע התחממות יתר מקומית של חומרי מקור ולמניעת יריקות במהלך אידוי תגובתי.
עיצוב כור היתוך מודולרי:
מצויד עם 4 עד 6 -כיסים הניתנים לאינדקס, המאפשרים שקיעות רב-שכבתיות מבלי לשבור את הוואקום.
נעילת ואקום מתקדמת:
שסתומים פנאומטיים מבוקרים PLC, חיספוס אוטומטי/רצף ואקום גבוה- ומנעולים מגנים מפני כשל במי קירור וחריגות חשמל.
חדר זיהום- נמוך:
מיגון פנימי משתמש בפלדת אל-חלד מלוטשת אלקטרו- עם ספינות נשלפות להפחתת חלקיקים מהירה ותפנית תחזוקה.
חומרים ומצעי סרטים
חומרי אידוי תואמים
מתכות: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
דיאלקטריים ותחמוצות: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO
סוגי מצע
פרוסות סיליקון (2 אינץ' עד 12 אינץ')
מצעי זכוכית אופטית, סיליקה ממוזגת ומצעי קוורץ
סרטי פולימרים גמישים (פוליאימיד, PET באמצעות גליל-ל-מודולי גליל)
מצעים קרמיים (Al2O3, AlN)
יישומים
ציפויים אופטיים:
ציפויים אנטי-רפלקטיביים (AR), מסנני פס צרים- ומראות עם רפלקטיביות גבוהה- עבור מערכות לייזר ופוטוניקה.
התקני מוליכים למחצה:
היווצרות מגע אוהמי, מתכת שערים ועיבוד-הרמה עבור מיקרואלקטרוניקה.
אופטואלקטרוניקה:
שכבות תחמוצת מוליכות (TCO) שקופות וסרטים דקים עבור צגי OLED ותאים פוטו-וולטאיים.
מו"פ מתקדם:
שכבות מגנטיות של סרט דק-, סרטים על-מוליכים ומבנים הטרו-מבנים רב-שכבתיים-.
התאמה אישית ותצורת מערכת
כל מערכת-סרטים דקים מוגדרת כך שתתאים למתכוני תהליך ופריסות מתקנים ספציפיים. התאמות הנדסיות זמינות כוללות:
בחירת ערימת שאיבה:
תצורות דיפוזיה של-משאבות טורבו (TMP), משאבות קריו או-שמן המותאמות לדרישות בסיס ואקום ותפוקה.
טען-שילוב נעילה:
טעינה ידנית של -נעילת או אוטומטיות מרובות- מערכות אשכולות לשמירה על שלמות ואקום גבוהה במיוחד- והגדלת תפוקת רקיק.
ב-מטרולוגיה באתר:
יציאות אינטגרציה לאליפסומטרים ספקטרוסקופיים, צגים אופטיים או מנתחי גז שאריות (RGA).
תוכנת שליטה:
ממשק PLC/HMI קנייני עם אחסון מתכונים, רישום נתונים ופרוטוקולי תקשורת SECS/GEM לאינטגרציה חכמה של מפעל.
ייצור ובקרת איכות
ייצור כלי:
כל תאי הוואקום עוברים בדיקת דליפה של ספקטרומטר מסת הליום עם סף דחייה של < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.
שלמות ריתוך:
ריתוך TIG מבוצע תחת מיגון גז אינרטי, ואחריו פסיבציה פנימית של פני השטח וליטוש מכני כדי להפחית את יציאת הגזים.
בדיקת קבלת מפעל (FAT):
72-שעות ניסוי רציפות של-מדידת עקומות שאיבה, דיוק של טאטוא רובה אלקטרוני, זמני תגובה של שילובים ויציבות תרמית לפני הארגז.
תאימות ותקנים:
מיוצר תחת מערכת ניהול איכות מאושרת ISO 9001, עם מערכות שתוכננו לעמוד בהנחיות CE ובהנחיות הבטיחות והארגונומיות הרלוונטיות של SEMI (S2/S8).
שאלות נפוצות
אנו-ידועים כאחד היצרנים והספקים המובילים של ציוד לסרט דק לאידוי קרן אלקטרונים בסין. אם אתה מתכוון לקנות ציוד מותאם אישית לאידוי קרן אלקטרונים תוצרת סין, מוזמן לקבל מחירון מהמפעל שלנו. לייעוץ מחירים צרו קשר.
